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镀膜材料

镀膜材料包括一系列金属、非金属和化合物材料,我们的镀膜材料可定制制作各种种类的薄膜。根据您的定制需求,使用物理气相沉积 (PVD) 方法溅射的材料可以定制为您想要的质量水平和确切尺寸。薄膜在日常用品和高度专业化的行业中都有数千种用途。使用薄膜材料沉积技术应用于产品或组件。通常,该过程通过两大类沉积——化学沉积或物理沉积来完成。我们为所有类型的应用提供薄膜材料。我们可以制造高纯度的定制金属、合金、贵金属、稀土金属和非金属。请在下方浏览我们的高品质薄膜材料,如有任何问题,请随时与我们联系!


三氧化钼(MoO₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 600.00

三氧化钨(WO₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1300.00

氧化镍(NiO)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 400.00

一氧化硅(SiO)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 1000.00

二氧化硅(SiO₂)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 200.00

氧化铈陶(CeO₂)瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 500.00

氧化铬(Cr₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 600.00

氧化铟(In₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 600.00

氧化锡(SnO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N,3N5

¥ 600.00

氧化镁( MgO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 650.00

二氧化钛(TiO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 400.00

氧化铌(Nb₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N5

¥ 500.00

五氧化二钽(Ta₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 1200.00

氧化钐(Sm₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 350.00

氧化镓(Ga₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 400.00

氧化钆(Gd₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1200.00

氧化钒(V₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1500.00

碳化硅(SiC)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 750.00

氧化钇(Y₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 300.00

氧化锌(ZnO)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 580.00

碳化硼(B₄C)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 450.00

碳化钨(WC)陶瓷靶材

纯度: 3N,3N5

¥ 1950.00

氮化铝陶瓷靶材(AlN)

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 1500.00

高纯铋(Bi) 靶材

纯度: 3N5,5N

¥ 400.00